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本質研究SKINeed 修敏保濕精華 - 產品正面包裝 | cosGlint

本質研究SKINeed

修敏保濕精華

不含以下成分

無香精
無色素
無矽靈
無油性成分

含有以下成分

含防腐劑
15種成分

用 cosGlint 肌智 AI 來分析 修敏保濕精華適不適合你,保濕並修護的舒緩精華,強調補水、修護角質層並含有抗氧化與舒緩成分,弱酸性配方(pH約5.56)。;高含水基底(約86% Water),訴求強效補水/保濕;含菸鹼醯胺(Niacinamide)可改善膚色不均與強化屏障;含Ectoin等細胞保護/舒緩成分,並有抗氧化成分(EGCG衍生物);低刺激配方,無添加明顯油脂或香精(依成分表判斷)

* 本分析由 cosGlint 肌智 AI 技術基於公開成分數據生成,僅供參考。

想知道這個產品適不適合你?

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成分列表

主要成分

Water

吸水保濕劑

小分子:

1,3-Butylene Glycol 5%
Diglycerin 3%
Niacinamide 2%
Sodium Polyglutamate 0.5%
Hydrolyzed Hyaluronic Acid 0.25%

油脂成分:

無

膠質成分:

Hydroxyethylcellulose 0.3%
PEG-40 Hydrogenated Castor Oil 0.5%

次要配方成分

特定活性成分:

Niacinamide 2%
Ectoin 1%
Hydrolyzed Hyaluronic Acid 0.25%
Epigallocatechin Gallatyl Glucoside 0.05%
Asiaticoside 0.15%
Madecassic Acid 0.15%
Asiatic Acid 0.15%

次要附屬成分

精油:

無

色素:

無

香料:

無

柔軟成分:

無

劑型穩定劑:

Hydroxyethylcellulose 0.3%

全成分列表

Water 86.05%
1,3-Butylene Glycol 5%
Diglycerin 3%
Niacinamide 2%
Ectoin 1%
1,2-Hexanediol 0.7%
Sodium Polyglutamate 0.5%
Hydroxyacetophenone 0.5%
PEG-40 Hydrogenated Castor Oil 0.5%
Hydroxyethylcellulose 0.3%
Hydrolyzed Hyaluronic Acid 0.25%
Asiaticoside 0.15%
Madecassic Acid 0.15%
Asiatic Acid 0.15%
Epigallocatechin Gallatyl Glucoside 0.05%
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