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Abib 修護復活草弱酸調理面膜 - 產品正面包裝 | cosGlint

Abib

修護復活草弱酸調理面膜

不含以下成分

無香精
無色素
無矽靈
無油性成分

含有以下成分

含防腐劑
38種成分

用 cosGlint 肌智 AI 來分析 修護復活草弱酸調理面膜適不適合你,Abib Mild Acidic pH Sheet Mask Jericho Rose Fit 修護弱酸性舒緩面膜,主打弱酸性pH值、含復活草(Jericho Rose)萃取與多種玻尿酸/保濕及修護成分,主訴保濕、撫紋與修護敏感或受損膚質。;弱酸性 pH 配方,接近皮膚自然酸性值,訴求溫和親膚;含大量復活草(Jericho Rose)萃取(包裝註明 29,400 ppm);含多重玻尿酸與其水解衍生物,強化保濕與鎖水;竹纖維與白蛋白(ALBAM)膜體,宣稱高貼合性與精華導出;含植物油(如 Camellia/茶籽類)與乳化/柔軟劑,提供潤澤與柔軟觸感

* 本分析由 cosGlint 肌智 AI 技術基於公開成分數據生成,僅供參考。

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成分列表

主要成分

Aqua (Water) / 多重保濕基底(甘油、丙二醇等)

吸水保濕劑

小分子:

Glycerin
Dipropylene Glycol
Propanediol
Pentylene Glycol
1,2-Hexanediol
Sodium Hyaluronate
Hydrolyzed Hyaluronic Acid
Hydrolyzed Sodium Hyaluronate
Potassium Hyaluronate
Panthenol
Fructose

油脂成分:

Camellia Sinensis Seed Oil
Cocos Nucifera (Coconut) Oil
Camellia Oleifera Seed Oil
Triethylhexanoin
Hydrogenated Lecithin

膠質成分:

Xanthan Gum
Carbomer
Lecithin

次要配方成分

特定活性成分:

Chlorella Vulgaris Extract
Anastatica Hierochuntica Extract
Lactobacillus Ferment
Cynanchum Atratum Extract
Althaea Rosea Extract
Sodium Hyaluronate
Adenosine
Panthenol

次要附屬成分

香料:

無

色素:

無

柔軟成分:

Triethylhexanoin
Hydrogenated Lecithin

精油:

無

劑型穩定劑:

Carbomer

全成分列表

Aqua
Glycerin
Dipropylene Glycol
Propanediol
Pentylene Glycol
1,2-Hexanediol
Chlorella Vulgaris Extract
Oleracea Extract
Anastatica Hierochuntica Extract
Lactobacillus Ferment
Cynanchum Atratum Extract
Althaea Rosea Extract
Sodium Hyaluronate
Hydrolyzed Hyaluronic Acid
Hyaluronic Acid
Camellia Sinensis Seed Oil
Avocado Kernel Extract
Yeast Extract
Cocos Nucifera Oil
Camellia Oleifera Seed Oil
Methyl Rapeseedate
Allantoin
Triethylhexanoin
Hydrogenated Lecithin
Sodium Phytate
Oligosaccharides
Fructose
Panthenol
Ethylhexylglycerin
Adenosine
Tromethamine
Acetylated Hyaluronate
Hydrolyzed Sodium Hyaluronate
Potassium Hyaluronate
Carbomer
Xanthan Gum
Cetearyl Alcohol
Lecithin
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