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無產品圖片

DR.WU

UV Mild Mineral Protect Lotion

不含以下成分

無香精
無色素
無油性成分

含有以下成分

含矽靈
含防腐劑
26種成分

用 cosGlint 肌智 AI 來分析 UV Mild Mineral Protect Lotion適不適合你,溫和礦物系防曬乳,主打物理性防曬(氧化鈦),含菸鹼醯胺、積雪草衍生物等修護及舒緩成分,標榜適合敏感肌與兒童使用,無化學防曬劑。;以礦物性成分 Titanium Dioxide 提供物理防曬;含 Niacinamide(菸鹼醯胺)與 Madecassoside(積雪草衍生物)協同舒緩與修護;配方標示為海洋友善且適合敏感肌與兒童

* 本分析由 cosGlint 肌智 AI 技術基於公開成分數據生成,僅供參考。

想知道這個產品適不適合你?

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UVE 防曬分析

mineral_only對礁石安全fda_grase_onlyall_photostable廣譜防護

UV 波段覆蓋

UVB 防護
UVA2 防護
UVA1 防護
廣譜防護

UV 濾光劑(1 種)

TiO₂TITANIUM DIOXIDE物理性UVB + partial UVA

防曬濃度分析

防曬活性成分總濃度不足

7.5%

TITANIUM DIOXIDE
7.5%充足

法規提示

fda_grase_only

此產品僅使用 FDA 完全認可 (GRASE) 的防曬成分

成分列表

主要成分

菸鹼醯胺 (Niacinamide)

吸水保濕劑

小分子:

Propanediol
Butylene Glycol
Glycerin
Pentylene Glycol

油脂成分:

Caprylic/Capric Triglyceride

膠質成分:

Acrylates Copolymer
AMMONIUM ACRYLOYLDIMETHYLTAURATE/VP COPOLYMER
Polyacrylate Crosspolymer-6
Sodium Polyacryloyldimethyl Taurate
Hydroxypropyl Methylcellulose Stearoxy Ether
POLYHYDROXYSTEARIC ACID

次要配方成分

特定活性成分:

Niacinamide
Madecassoside
Adenosine
Tocopherol
ANASTATICA HIERCHUNTICA EXTRACT
Centella Asiatica Extract

次要附屬成分

柔軟成分:

CYCLOHEXASILOXANE
Caprylic/Capric Triglyceride

劑型穩定劑:

Stearic Acid
ALUMINA

全成分列表

Aqua
TITANIUM DIOXIDE
Caprylic/Capric Triglyceride
Propanediol
Butylene Glycol
Acrylates Copolymer
Niacinamide
1,2-Hexanediol
Glycerin
POLYHYDROXYSTEARIC ACID
CYCLOHEXASILOXANE
Pentylene Glycol
Polymethylsilsesquioxane
ALUMINA
Stearic Acid
AMMONIUM ACRYLOYLDIMETHYLTAURATE/VP COPOLYMER
Polyacrylate Crosspolymer-6
Sodium Polyacryloyldimethyl Taurate
Hydroxypropyl Methylcellulose Stearoxy Ether
Ethylhexylglycerin
Adenosine
t-Butyl Alcohol
Madecassoside
Tocopherol
ANASTATICA HIERCHUNTICA EXTRACT
Centella Asiatica Extract
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