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SK II

未命名產品

不含以下成分

無香精
無色素
無矽靈
無油性成分

含有以下成分

含防腐劑
7種成分

用 cosGlint 來分析 未命名產品適不適合你,SK-II Facial Treatment Mask 面膜,為日本製造的單片式臉部面膜。配方以水、Galactomyces Ferment Filtrate(OCR標示為ガラクトミセス培養液)及保濕與配方穩定成分為主;本品屬保養品/化粧品,非藥品。;單片式面膜,包裝標示1枚入;建議敷用時間為5至15分鐘;含 Galactomyces Ferment Filtrate、Butylene Glycol 等保濕相關成分

* 本分析由 cosGlint 技術基於公開成分數據生成,僅供參考。

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成分列表

主要成分

Galactomyces Ferment Filtrate

吸水保濕劑

小分子:

Water
Galactomyces Ferment Filtrate
Butylene Glycol

膠質成分:

Xanthan Gum

次要配方成分

特定活性成分:

Galactomyces Ferment Filtrate

次要附屬成分

劑型穩定劑:

Disodium EDTA
Xanthan Gum

全成分列表

Water
Galactomyces Ferment Filtrate
Butylene Glycol
Xanthan Gum
Sodium Salicylate
METHYLPARABEN
Disodium EDTA
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