用 cosGlint 肌智 AI 來分析 Dermalogica 德卡 Colloidal Masque Base 177ml適不適合你，溫和保濕且舒緩的面膜基底，含多種植物萃取與保濕成分，設計用於提升肌膚潤澤與舒緩感受。；含多種保濕成分（Sodium Hyaluronate、Butylene Glycol、Methyl Gluceth-20、Panthenol）；含植物萃取（茶葉、薰衣草、黃瓜等）與抗氧化劑（Tocopheryl Acetate）；配方以溫和防腐與緩衝劑穩定，適合作為面膜基底使用
* 本分析由 cosGlint 肌智 AI 技術基於公開成分數據生成，僅供參考。
想知道這個產品適不適合你？
成分列表
主要成分
水 (Water)
吸水保濕劑
小分子：
油脂成分：
膠質成分：
次要配方成分
特定活性成分：
次要附屬成分
香料：
柔軟成分：
劑型穩定劑：
全成分列表
